Профиль DKC верт. монтажные, 32U, "L" для напольных 19" IT-корпусов ДКС серии CQE, 2шт R5VUG32L

Профиль R5VUG32L от DKC представляет собой 19-дюймовый вертикальный монтажный профиль высотой 32U, предназначенный для надежной установки оборудования в напольных шкафах. Эта модель изготовлена из прочной стали с оцинкованной поверхностью, что обеспечивает высокую устойчивость к коррозии и долговечность конструкции при эксплуатации в различных условиях. Профиль оснащён бесступенчатой установкой, что позволяет гибко настраивать положение оборудования по всей высоте шкафа и упрощает монтаж как новых, так и уже используемых устройств.

Благодаря L-образной форме 19" профиля, профиль R5VUG32L обеспечивает надежную фиксацию и оптимальное распределение нагрузки, предотвращая деформацию даже при установке тяжёлого оборудования. Высота профиля шины составляет 2.0 мм, что гарантирует дополнительную прочность и стабильность всей монтажной системы. Винтовое крепление позволяет быстро и безопасно закрепить профиль внутри напольного шкафа, а точная длина в 1494.0 мм подходит для большинства современных серверных и телекоммуникационных решений.

Преимуществами профиля R5VUG32L являются его универсальность для различных типов напольных шкафов, простота монтажа благодаря бесступенчатой установке, а также высокая прочность конструкции за счёт использования качественной стали с оцинкованной отделкой. Особенности модели включают L-образную форму профиля, точную высоту на 32U и возможность винтового крепления, что делает этот продукт оптимальным выбором для центров обработки данных, серверных комнат и сетевых шкафов различной конфигурации.

Профиль R5VUG32L может применяться для размещения телекоммуникационного, серверного и сетевого оборудования в напольных шкафах любых брендов, совместимых с форм-фактором 19 дюймов. Его использование особенно актуально при необходимости частой модификации конфигурации шкафов или модернизации оборудования. Надёжность и долговечность конструкции позволяют эффективно эксплуатировать профиль в условиях интенсивной нагрузки и частых изменений расположения аппаратуры.